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用于制作大鼠放射性脑损伤模型的辐射保护装置.pdf

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    本实用新型公开了用于制作大鼠放射性脑损伤模型的辐射保护装置，包括：盖体，所述盖体上设置有照射通孔，所述照射通孔置于待测样本的待测区域上方，所述照射通孔用于供射线通过；挡板，所述挡板滑动设置于所述盖体上，且所述挡板用于控制通过所述照射通孔的射线量；底板，所述底板与所述盖体相互适配，且所述盖体盖设于所述底板上；所述底板用于容置待测样本；固定件，所述固定件置于所述底板上，所述固定件用于固定待测样本。上述技术方案通过所述固定件的设置可固定位于所述底板上的待测样本；通过所述盖体以及所述照射通孔的设置使得射

    (19)国家知识产权局

    (12)实用新型专利

    (10)授权公告号CN220525687U

    (45)授权公告日2024.02.23

    (21)申请号202322137403.8

    (22)申请日2023.08.09

    (73)专利权人福建医科大学

    地址35010

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