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本发明涉及一种用于提供过程气体的装置，该过程气体用于CVD反应器(1、1’、1”)，具有输入端质量流量调节器(10)，(11)用于提供流入蒸发装置(2、2’、2”)的载气流量，该载气流量将储存在蒸发装置(2、2’、2”)的容器(4)中的原料(3)的蒸气通过过程气体输入管路(9、9’、9”)输送到CVD反应器(1、1’、1”)，其中过程气体输入管路(9、9’、9”)中的总压力可以通过压力调节器(8)保持在预定值。为了使输入CVD反应器的原料(3)的质量流量在时间上充分保持恒定，规定通过过程气体输入
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117597468A
(43)申请公布日2024.02.23
(21)申请号202280047738.6(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所
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