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一种基于方位向过采样以及二维频谱的成像方法.pdfVIP

一种基于方位向过采样以及二维频谱的成像方法.pdf

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    本发明涉及SAR成像领域，本发明涉及SAR成像领域，具体是一种基于方位向过采样以及二维频谱的成像方法。本发明方法采用修正的垂距信号模型，将二维时域信号变换到二维频域，以参考距离Rmid为基准，构造二维频域匹配函数实现高阶距离‑‑方位耦合(频域距离弯曲)校正，然后对经过校正的二维频域信号在距离向进行聚焦(脉冲压缩处理)，再在压缩后的距离时域‑‑方位频域进行线性(1阶)距离‑‑方位耦合(频域距离走动)校正，最后在方位向进行聚焦处理。解决了RD算法中大斜视、大场景情况下聚焦深度不足公里级别的问题。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117590391A

    (43)申请公布日2024.02.23

    (21)申请号202311540671.2

    (22)申请日2023.11.20

    (71)申请人湖南大学

    地址410082

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