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掩模组件、掩模板的制备方法及掩模板.pdfVIP

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  • 2024-02-29 发布于四川
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掩模组件、掩模板的制备方法及掩模板.pdf

    本申请涉及半导体制备技术领域，本申请公开一种掩模组件、掩模板的制备方法及掩模板。掩模组件包括第一掩模板、第二掩模板及绝缘层，第一掩模板包括多个第一重叠区，第二掩模板包括多个第二重叠区，第一掩模板与第二掩模板层叠设置，第一重叠区与第二重叠区一一对应，绝缘层设置于所述第一重叠区面向所述第二重叠区的表面和/或所述第二重叠区面向所述第一重叠区的表面。与现有技术相比，通过在绝缘层内设置涂层材料，避免第一重叠区与第二重叠区层叠后，无法涂覆涂层的问题，进而提高整体掩模组件的涂覆的涂层面积，也就可有效提高整体掩

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN114990519A

    (43)申请公布日2022.09.02

    (21)申请号202210692915.8

    (22)申请日2022.06.17

    (71)申请人京东方科技集团股份有限公司

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