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- 2024-03-02 发布于四川
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本申请实施例涉及半导体激光器技术领域,特别涉及一种双梯形有源MMI半导体激光器及其制备方法,该半导体激光器包括:衬底以及下波导层、有源层和上波导层;上波导层远离衬底的一侧设有双梯形有源MMI结构,双梯形有源MMI结构通过对位于上波导层顶部的上波导盖层进行刻蚀形成;双梯形有源MMI结构包括沿光传播的方向依次排布的单模输入波导、多模干涉区波导、单模输出波导;单模输入波导和单模输出波导均为直波导;多模干涉区波导为双梯形多模干涉区波导,包括第一梯形波导和第二梯形波导;衬底的底部与上波导盖层的顶部均设置有
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117638638A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202311657164.7
(22)申请日2023.12.05
(71)申请人长春理工大学
地址130022
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