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本发明提供一种用于晶圆表面清洗的管‑管型阵列式DBD等离子体清洗方法与装置，特别涉及在大气压下放电而产生等离子体并将其通过气流将其传至晶圆表面，属于等离子体清洗技术领域。采用多管高低压电极交错排布结构，等离子体在相邻两个管高低压电极之间产生，通过增加管电极数量能够形成大面积均匀DBD等离子体区域，在高低压电极间隙通入垂直气流，将等离子体中产生的活性物质快速传至材料表面，并与表面污染物迅速反应生成易挥发气体，实现污染表面的高效清洗。本发明还可以通过调整电极间距，增加电极对数等来提高清洗效果，结构较
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117637429A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202311600616.8
(22)申请日2023.11.28
(71)申请人大连理工大学
地址116024
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