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一种实现悬空波导的方法及其制作工艺.pdfVIP

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  • 2024-03-02 发布于四川
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一种实现悬空波导的方法及其制作工艺.pdf

    本发明公开了一种实现悬空波导的方法及其制作工艺，包括以下制作工艺步骤：S1：对硅或者氮化硅波导等波导层进行波导的制作；S2：通过等离子体化学气相沉积部分上包层；S3：对悬空结构开孔刻蚀；S4：对悬空结构进行侧向刻蚀；S5：采用USGoxide材料对上包层的开孔区域形成封口。该实现悬空波导的方法及其制作工艺，通过悬空波导主要用于硅波导、氮化硅波导等其他波导结构与光纤的端面耦合，悬空结构可以防止光场向衬底硅层的泄露；此外，利用悬空的二氧化硅波导结构还可能形成低折射率差的波导对光场进行展宽，进一步降

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117631145A

    (43)申请公布日2024.03.01

    (21)申请号202311793496.8

    (22)申请日2023.12.25

    (71)申请人苏州硅光科技有限公司

    地址21

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