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本发明公开了一种改善薄膜均匀性的调节装置和方法及工艺设备，装置包括：设于载物台下方的基座，所述基座设有上下相对设置的第一轴联部和第二轴联部，所述第二轴联部连接下方的主轴，所述第一轴联部通过上方同轴设置的连接轴与所述载物台相连；位置调节机构，连接于所述第一轴联部和所述第二轴联部之间；驱动控制机构，用于通过驱动所述位置调节机构作相对于所述第一轴联部和所述第二轴联部的转动，以调整所述第一轴联部相对于所述第二轴联部的上下方位，实现对所述载物台的相对水平状态的自动调节。本发明能实现设备工艺性能自动化管理调
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117626230A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202311659067.1
(22)申请日2023.12.05
(71)申请人上海集成电路研发中心有限公司
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