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- 2024-03-02 发布于四川
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本发明涉及偏振片制备技术领域,尤其涉及一种利用偏振涂层制备偏振片的方法,包括如下步骤:S1、在透明基板上采用PVD物理沉积的方式沉积金属膜层;S2、在金属膜层上涂布光刻胶;S3、使用纳米级阵列掩膜版对涂布光刻胶的金属膜层进行曝光和显影处理;S4、刻蚀处理;S5、去处阵列结构上多余的光刻胶;S6、对阵列结构进行平坦化处理;S7、在偏振面沉积保护层。本发明通过改变生产方式,生产制备效率极大提高;且微观组织结构的调控性增强,偏振片的性能调控如消光比、工作波长等可控性增强。缺少拉伸制备流程、氢气还原反应
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117631118A
(43)申请公布日2024.03.01
(21)申请号202210986688.X
(22)申请日2022.08.17
(71)申请人长飞(武汉)光系统股份有限公司
地
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