Array工艺流程讲解-.pptxVIP

Array工艺流程基础介绍;一、TFTLCD结构

1.1TFTLCD结构

1.2TFT结构形成流程简介;1.1TFTLCDStructure;TN模式：此ITO在CF侧

ADS模式：此ITO在Array侧;Glass;1.1TFT结构;1.2TFT结构形成流程简介;1.2TFT结构形成流程简介;1.3TFT各模式流程对比;1.3TFT各模式流程对比;1.3TFT各模式流程对比;1.3TFT各模式流程对比;一、TFTLCD结构

1.1TFTLCD结构

1.2TFT结构形成流程简介;;GateLayer工艺;SD工艺;SD工艺;SD工艺;PVX工艺;成膜;一、TFTLCD结构

1.1TFTLCD结构

1.2TFT结构形成流程简介;成膜工艺_a.Sputter工艺

b.PECVD工艺;

layer;23;;不良名;

layer;3.1PECVD工艺原理;TSSL;不良名;涂光刻胶曝光工艺显影工艺;Photo工艺的三个主要步骤：涂胶、曝光、显影;

1;;;不良名;刻蚀工艺a.湿式蚀刻

Inline

b.干式蚀刻;Film;Process;Etch

1;AOI;不良名;TestRepair;检测方法;检测方法;;一、TFTLCD结构

1.1TFTLCD结构

1.2TFT结构形成流程简介;4.1不良的分类;4.1不良的分类;4.1不良的分类;4.2不良的辨别;ThankYou