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- 2024-03-09 发布于四川
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本发明涉及一种PERC晶体硅太阳能电池片的减反射膜及其制备方法和用途。所述减反射膜包括依次设置在所述晶体硅基体正面上的氧化硅薄膜层、低折射率超薄氮化硅覆盖层和正面氮化硅钝化膜层，所述低折射率超薄氮化硅覆盖层的折射率为2.02‑2.06，厚度为0.5‑6nm，所述正面氮化硅钝化膜层的折射率不小于所述低折射率超薄氮化硅覆盖层的折射率。通过在PERC晶体硅太阳能电池片的减反射膜中，在晶体硅基体正面上的氧化硅薄膜层和正面多层氮化硅钝化膜层之间设置低折射率超薄氮化硅覆盖层，可以使得含有该减反射膜的PERC
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN115132854A
(43)申请公布日2022.09.30
(21)申请号202210894750.2
(22)申请日2022.07.28
(71)申请人苏州工业职业技术学院
地址215
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