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本申请实施例公开了一种等离子体控流装置、等离子刻蚀机及其均一性优化方法，等离子刻蚀机包括等离子体反应腔、晶圆支撑台和等离子体控流装置；等离子体控流装置包括第一环形体、第二环形体和环形连接体；第一环形体、第二环形体和环形连接体均环绕直线A设置；环形连接体位于间隔空间中并连接第一环形体和第二环形体，与第一环形体和第二环形体共同围合形成控流腔；第一环形体靠近等离子体反应腔的进气口，第二环形体靠近晶圆支撑台；晶圆支撑台的晶圆放置区域位于第一环形体的内孔在晶圆支撑台上的投影区域内，也位于第二环形体的内孔在
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117672795A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202211057672.7
(22)申请日2022.08.31
(71)申请人江苏鲁汶仪器股份有限公司
地址
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