衍射光波导的制备方法、衍射光波导以及AR设备.pdfVIP

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2024-03-09 发布于四川
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衍射光波导的制备方法、衍射光波导以及AR设备.pdf

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本发明提供了一种衍射光波导的制备方法，包括：提供一波导基底；在波导基底的表面形成图形化压印胶层；以图形化压印胶层为第一掩模，对波导基底进行第一阶段的刻蚀，以在第一区域形成耦入结构，同时在第二区域形成剩余的图形化压印胶层；利用剩余的图形化压印胶层形成第二掩膜；以第二掩膜为掩模刻蚀波导基底以形成耦出结构；其中，耦出结构的深度大于耦入结构的深度。该方案解决了如何保证波导基底上深度不等的耦入结构和耦出结构成型的同时，满足耦入结构和耦出结构相对位置无明显偏差的要求；且适用于批量制造。

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117666025A

(43)申请公布日2024.03.08

(21)申请号202211057795.0

(22)申请日2022.08.31

(71)申请人上海鲲游科技有限

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