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本发明属于原子光学领域,提供一种全玻璃原子气室及其制备方法。该方法包括以下步骤:(1)提供玻璃基板、第一玻璃和第二玻璃;(2)采用激光切割及湿法蚀刻工艺对玻璃基板进行加工,以在玻璃基板上形成气室通孔、内部沟道和气孔通孔;(3)对玻璃基板的第一表面和第二表面进行抛光;(4)在抛光后的第一表面和第二表面上分别键合第一玻璃和第二玻璃;(5)在气孔通道上连接加注管;(6)通过加注管抽真空,并加注碱金属原子,使碱金属原子进入到气室中;(7)对加注管进行密封,以形成全玻璃原子气室。该方法适用于多种结构的微小
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117658478A
(43)申请公布日2024.03.08
(21)申请号202311344772.2
(22)申请日2023.10.17
(71)申请人清华大学
地址100084
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