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反应离子刻蚀
简介
反应离子刻蚀（RIE）是一种通过气体放电产生的离子束来刻蚀材料表面的技术。它是一种非常重要的微纳加工工艺，被广泛应用于半导体、光学和纳米科技领域。本文将介绍反应离子刻蚀的原理、设备和应用。
原理
反应离子刻蚀原理基于离子束与材料表面的相互作用。在RIE设备中，通过一个高频电源产生一个电场，使得工作间隙中的气体（通常为氧气或氟气）在电场下发生电离。产生的离子在电场的作用下加速并对材料表面进行刻蚀。
反应离子刻蚀的过程可以分为三个主要阶段：电离阶段、加速阶段和反应阶段。
电离阶段：利用高频放电使得气体中的原子或分子电离，产生大量
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