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曝光装置及测量系统.pdfVIP

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  • 2024-03-13 发布于四川
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曝光装置及测量系统.pdf

    为了提高FO‑WLP的布线图案形成中的处理能力，曝光装置具备：基板载台，其载置多个基板；和多个第1投影模块，其分别具有空间光调制器，将使在上述多个基板的各基板上配置有多个的半导体芯片间连接的布线图案投影到上述多个基板上，上述多个第1投影模块在不同的基板上大致同时投影各个上述布线图案。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117693717A

    (43)申请公布日2024.03.12

    (21)申请号202280049277.6(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所

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