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本申请提供一种光刻胶粘附性的检测方法,检测方法包括:提供衬底,并在所述衬底上涂覆光刻胶层;采取掩膜版对所述光刻胶层的不同区域分别进行曝光;在所述不同区域,分别采取不同的曝光焦距;对曝光后的所述光刻胶层进行显影,以得到分别与所述不同区域相对应的多个图案块;根据不同曝光焦距所对应的所述图案块确定所述光刻胶的粘附性等级。本申请通过掩膜版对衬底上的光刻胶层的不同区域分别进行曝光,且在不同区域,分别采取不同的曝光焦距,从而在显影后可以根据分别不同区域相对应的多个图案块来确定光刻胶的粘附性等级,能够更为准确
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117687274A
(43)申请公布日2024.03.12
(21)申请号202311829074.1
(22)申请日2023.12.27
(71)申请人芯联集成电路制造股份有限公司
地址
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