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本发明涉及半导体技术领域,具体公开了一种具有截止环结构的功率半导体器件,包括半导体基板,元胞区位于半导体基板的中心区,终端保护区位于元胞区的外圈且环绕元胞区设置;位于终端保护区的第二导电类型体区内环绕第二类沟槽的外围设置有截止环结构;截止环结构包括第三类沟槽、第四类沟槽和截止环金属,第三类沟槽和第四类沟槽的沟槽底部均伸入第一导电类型外延层内,截止环金属位于第三类沟槽和第四类沟槽的上方,且截止环金属能够通过第四类沟槽伸入第一导电类型外延层内。本发明还公开了一种具有截止环结构的功率半导体器件的制作方
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110544725A
(43)申请公布日
2019.12.06
(21)申请号20191
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