投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像研究的中期报告.docxVIP

投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像研究的中期报告

中期报告：

一、研究目的：

本研究旨在研究投影光刻调焦及DMD无掩模光刻成像技术，在这两种光刻技术中探究其成像精度、成像速度、成本等重要因素。

二、研究方法：

1、投影光刻调焦：

通过对投影光刻机的调节，调整光刻头与硅片之间的距离，然后使用透射物镜逐个对焦。利用角度衍射理论重新规划光路，提高调焦精度。

2、DMD无掩模光刻成像：

利用数字微镜投影仪（DMD）模拟掩模的投射，并将模拟得到的掩模与硅片形成接触，获得光刻图案。同时探讨DMD光刻机的成像速度与成本等其他重要因素。

三、研究成果：

1、投影光刻调焦：

通过调节光刻头与硅片之间的距离，及利用透射物镜逐个对焦，实现了投影光刻调焦。通过重构光路，也获得了更高的调焦精度。

2、DMD无掩模光刻成像：

采用DLP光源和DMD投影仪来模拟掩模投影。该方案有较高的光刻速度，并大幅度降低了光刻成本。此外，它可以达到高精度的成像。

四、研究结论：

1、投影光刻调焦：

通过针对光刻头与硅片之间距离的调整和透射物镜的使用，我们实现了投影光刻调焦的目的。而且，通过角度衍射理论重新规划光路，精度进一步提高。

2、DMD无掩模光刻成像：

采用数字微镜投影仪（DMD）进行无掩模光刻成像时，可以通过使用DLP光源，实现高运行速度及较低成本，并且有极高的精度。DMD光刻机可以实现可定制化的设备，并为创新提供了新的思路。