GB/T 41064-2021表面化学分析　深度剖析　用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法.pdf

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中华人民

和国国家标准

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GB/T41064-2021/ISO17109:2015

表面化学分析深度剖析用单层和

多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇

电子能谱和二次离子质谱中深度剖析

溅射速率的方法

Surfacechemicalanalysis-Depthprofiling-Methodforsputterrate

determinationinX-rayphotoelectronspectroscopy,Augerelectronspectroscopy

andsecondary-ionmassspectrometrysputterdepthprofilingusingsingleand

multi-layerthinfilms

(ISO17109:2015,IDT)

2021-12-31发布2022-07-01实施

国家市场监督管理总局

发布

国家标准化管理委员会

GB/T41064-2021/ISO17109:2015

目次

前言…………………………皿

引言…………..……·………..……...……………·N

l范围－

.2规范性引用文件…··

3术语和定义·

4单层和多层薄膜参考物质的要求·

5溅射速率的确定……….................….........…......….......….2

附录AC资料性〉国际比对实验报告…

附录B（资料性〉通过溅射产额列表值估算其他材料的溅射速率……

参考文献………….....………………...…....12

I

GB/T41064-2021/ISO17109:2015

前言

本文件按照GB/T1.1-2020《标准化工作导则第1部分：标准化文件的结构和起草规则》的规定

起萃，

本文件等同采用ISO17109:2015《表面化学分析深度剖析用单层和多层蹲膜测定X射线光电

子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法》。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利．本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由全国微柬分析标准化技术委员会（SAC/TC38）提出井归口。

本文件起草单位：清华大学、中国石油大学（北京〉。

本文件主要起草人：姚文清、段建霞、杨立平、王雅君、李展平、徐同广、王岩华。