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本发明涉及半导体技术领域，提供一种纳米压印机构、设备及方法，其中纳米压印机构包括承片台，用于承载衬底；固定装置，设置于所述承片台的上方；所述固定装置包括工作腔，所述工作腔内设置有模板安装件以及位于模板安装件下方的软膜固定件；当所述工作腔对固定于软膜固定件上的软膜施加气压时，所述软膜的表面形成有不同目标区域的形变；所述工作腔内还设置有加热装置，所述加热装置用于对不同目标区域的软膜表面进行加热。通过设计加热装置对软膜表面进行加热的结构来抵消或减弱不同目标区域之间软膜不同程度的形变对图形周期变化的影响
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117706868A
(43)申请公布日2024.03.15
(21)申请号202311839616.3
(22)申请日2023.12.28
(71)申请人福建晶安光电有限公司
地址36
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