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实施方式的半导体存储装置具备:多个配线层,在半导体衬底上方介隔绝缘层而积层;第1及第2存储柱,贯通多个配线层;以及多个第1插头,底面分别与多个配线层相接。多个配线层具备:第1阵列区域,供第1存储柱贯通多个配线层;第2阵列区域,供第2存储柱贯通多个配线层;以及连接区域,具有分别与多个第1插头连接的多个连接部。沿着第1方向依次配置第1阵列区域、连接区域、及第2阵列区域。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN110277394A
(43)申请公布日
2019.09.24
(21)申请号20181
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