等离子体概述.pptVIP

等离子体成膜：PECVDPECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--等离子体增强化学气相沉积法实验机理：是借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。低温等离子体应用第31页，课件共54页，创作于2023年2月PECVD作用：在硅片表面镀上一层深蓝色的氮化硅膜，可以充分吸收太阳光，降低反射，并且氮化硅膜有钝化的作用，保护电池片不受污染。

PECVD原理：利用硅烷（SiH4）与氨气（NH3）在等离子体中反应，生成Si3N4沉积到硅片表面。

干法刻蚀化学方程式：PECVD效果：

第32页，课件共54页，创作于2023年2月纳米尺度上

针尖状表面特征类金刚石表面制造实验室与日本原子力所先进科学研究中心合作，开展了非平衡薄膜表面制造的研究，成功第地制备了纳米尺度的针状表面、波纹表面，树枝状表面、正弦表面等表面结构，其中波纹表面，是应用薄膜生长过程的自组织过程中直接形成的。（J.Chem.Phys.116,10458，2002）纳米尺度上

波纹状表面树枝状表面大面积正弦表面第33页，课件共54页，创作于2023年2月毫米级厚金刚石片制备研究应用PCVD方法开展金刚石模制备研究开展了