磁控溅射原理课件.pptxVIP

?磁控溅射原理简介?磁控溅射装置与系统?磁控溅射过程与机制?磁控溅射技术的研究与发展?磁控溅射技术的应用实例?总结与展望01磁控溅射原理概述磁控溅射技术的特点高沉积速率优良的附着力优良的薄膜质量磁控溅射的应用领域光学薄膜功能性薄膜装饰性薄膜02磁控溅射装置的组成真空室阳极。阴极靶材电源系统磁控溅射系统的原理020103气体放电离子加速溅射原子沉积磁控溅射系统的特点高沉积速率优良附着力由于磁控溅射利用磁场控制电子的运动，提高了电子的利用率，从而提高了沉积速率。由于溅射原子能量较高，与基片表面相互作用较强，形成的薄膜附着力较好。适合大面积镀膜适用材料广泛磁控溅射系统可以同时对多个基片进