原创力文档- 10
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- 2024-03-23 发布于四川
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本发明公开了一种可二次雕刻的双光子光刻胶及其制备方法、应用，属于高分子化学材料技术领域。本发明所提供的双光子光刻胶，包括二硫键丙烯酸酯、活性交联剂、长波长双光子引发剂、单光子光碱剂，以及作为休眠还原剂的二硫苏糖醇和作为溶剂的N,N二甲基甲酰胺，实现在首次飞秒加工增材制造的基础上，进一步利用另一束低能量连续405nm激光进行减材加工，在连续激光作用下，单光子光碱剂分解并释放碱性物质，将二硫苏糖醇去质子化，并还原打开二硫键丙烯酸酯中的二硫键，从而将已经交联固化的光刻胶分解，并在显影时去除，达成二次雕
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117742074A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311776701.X
(22)申请日2023.12.21
(71)申请人浙江扬帆新材料股份有限公司
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