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适用于化学发光体系的清洗液及其制备方法和应用.pdfVIP

适用于化学发光体系的清洗液及其制备方法和应用.pdf

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    本发明公开了一种适用于化学发光体系的清洗液，每1000mL清洗液中，包括缓冲液：300‑600mM；氯化盐：300‑600mM；表面活性剂：0.1‑0.3mL；防腐剂：0.05‑0.2g；消泡剂：0.2‑1.0mL；余量为水。本发明所提供的一种适用于化学发光体系的清洗液，其通过使用2‑羟基吡啶‑N‑氧化物作为防腐剂，该防腐剂具有成本低，使用方便，防腐抗菌的效果好，对动物及人体无明显不良影响，对环境污染也较小，同时具有优异的清洗效果，保证了检测结果的稳定性、准确性，可大规模推广使用。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117740765A

    (43)申请公布日2024.03.22

    (21)申请号202311612168.3

    (22)申请日2023.11.29

    (71)申请人重庆鉴星生物科技有限公司

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