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本发明涉及光学材料技术领域，提供了一种低透过、低反射防光晕输入窗及其制备方法。本发明采用真空镀膜的方式在透明输入窗衬底表面镀制多层膜，通过吸收层和介电层薄膜的相位匹配设计，利用吸收层吸收由输入窗入射进来的光，利用介电层降低吸收层对入射光线的反射，从而实现吸收入射和反射到界面的光，以消除杂散光，降低反射率，满足在像增强器上的使用要求。本发明提供的制备方法操作过程简单，适用范围广，并且薄膜厚度控制精确，质量好，产品一致性高，有利于器件的实际应用。并且，本发明制备的防光晕输入窗黑化区域薄膜在宽谱范围内
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117741836A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202410112722.X
(22)申请日2024.01.26
(71)申请人杭州邦齐州科技有限公司
地址3
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