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                本发明公开了一种单粒子效应敏感性测试的方法,包括:对SiCMOSFET样品器件进行单粒子辐照试验;对辐照后的所述样品器件进行1/f噪声测试,得到电流功率谱密度与频率关系;根据所述电流功率谱密度与频率关系得到样品器件的内部缺陷密度,基于内部缺陷密度得到单粒子效应敏感性。本发明利用低频噪声分析单粒子效应的敏感性,解决SiCMOSFET单粒子效应辐照试验后电学参数退化不明显以及不准确的问题。
                    (19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117741376A
(43)申请公布日2024.03.22
(21)申请号202311499252.9
(22)申请日2023.11.10
(71)申请人湘潭大学
地址411100
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