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离子束溅射源特性及其镀膜工艺研究的中期报告
该研究的中期报告主要介绍了离子束溅射源的特性及运行情况，以及借助该源开展的镀膜工艺研究进展情况。
一、离子束溅射源特性及运行情况
离子束溅射源是一种新型的薄膜制备装置，它采用离子束轰击材料表面，将材料蒸发并沉积在衬底上的方式制备薄膜。该源的主要特点包括离子束能量高、束斑直径小、溅射率大、镀膜速度快等。
在实验中，我们采用四极面离子束溅射源，使用不同离子能量的氩离子轰击靶材，探究了源的溅射率、离子束能量对镀膜速度、镀膜质量以及厚度均匀性的影响。通过实验，我们发现随着离子束能量的增加，镀膜速度增大，但同样表现出镀膜质量的劣化和不均匀性的增加。
二、离子束溅射源开展的镀膜工艺研究进展情况
1.金属阳极氧化膜的制备
采用离子束溅射源，使用不同离子能量的氧离子对金属薄膜进行氧化处理，制备出了金属阳极氧化膜。研究表明，源的氯离子束可以起到清洗金属表面杂质的作用，有利于制备出较为均匀的氧化膜。
2.钠钾镁离子电池正极材料的制备
选用离子束溅射源，用不同离子能量的镁离子轰击二氧化钛、二氧化钒等材料，制备出了高性能的正极材料。实验结果表明，离子束能量越高，所制备的正极材料的电学性能越好。
3.纳米结构材料的制备
利用离子束溅射源，将金属薄膜制备成纳米粒子团簇，并通过控制源的气氛压强和反应温度实现了不同形貌的纳米结构材料制备。实验结果表明，随着反应温度的升高，制备出的纳米材料尺寸更小，形貌更趋于球形。
总之，离子束溅射源在材料制备方面具有潜在的应用价值，针对其源特性展开的镀膜工艺研究有利于进一步挖掘和发掘其潜力。
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