一种厚胶正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法.pdfVIP

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2024-03-30 发布于四川
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一种厚胶正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法.pdf

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本申请提供一种厚胶正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法，涉及光刻机技术领域。本申请的厚胶正性光刻胶，按质量份数计，包括：30份‑70份的酚醛树脂、20份‑40份的含硅共聚物成膜树脂、10份‑20份的光敏化合物、0.01份‑1份的流平剂和80份‑150份的溶剂。其中，含硅共聚物成膜树脂的结构包括：式中的R选自H或C1‑C5的烷基。本申请通过在酚醛树脂中添加含硅共聚物成膜树脂，利用该成膜树脂的热稳定性、耐高温性、机械性能、抗侵蚀性等，提高了光刻胶层的粘附性、柔韧性、热稳定性和机械强度，还能防止光刻胶层的

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117784524A

(43)申请公布日2024.03.29

(21)申请号202311871901.3

(22)申请日2023.12.29

(71)申请人阜阳欣奕华材料科

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