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本发明提供了一种超快浮栅型存储器及其制备方法,超快浮栅型存储器包括衬底层和依次设置在所述衬底层上的控制栅、阻挡绝缘层、浮栅层、隧穿绝缘层和沟道层,还包括设置在所述沟道层上的源电极和漏电极,其中,所述控制栅和所述浮栅层采用导体或半金属二维材料;所述阻挡绝缘层和所述隧穿绝缘层采用绝缘二维材料;以及所述沟道层采用半导体二维材料,以及其中,所述隧穿绝缘层的电容大于所述阻挡绝缘层的电容。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117794244A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202311204706.5
(22)申请日2023.09.19
(66)本国优先权数据
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