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本发明涉及真空处理技术领域，公开了一种真空处理装置及处理方法，真空处理装置包括第一腔体、第二腔体、第一驱动机构和密封驱动机构，第一腔体包括多个沿第一腔体的周向设置于第一腔体的第一子腔体，第二腔体包括多个沿第一腔体的周向设置的第二子腔体，第一驱动机构的输出端可驱动第二腔体转动，以使各第二子腔体依次地与各第一子腔体构成空间对应，密封驱动机构包括连接于第二子腔体的推拉组件，还包括与推拉组件连接并可沿第一腔体的轴向往复移动的第二驱动机构，第二驱动机构可驱动推拉组件以使第二子腔体和构成空间对应的第一子腔体
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117778984A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202211160754.4
(22)申请日2022.09.22
(71)申请人光驰科技（上海）有限公司
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