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2024-03-30 发布于四川
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本申请公开了一种掩膜板及其制备方法、曝光装置，掩膜板包括第一掩膜区和第二掩膜区，第一掩膜区包括多个第一遮光区，沿第一方向相邻的两个第一遮光区之间包括第一透光区；第二掩膜区与第一掩膜区沿第一方向排列，第二掩膜区包括多个第二遮光区，沿第一方向相邻的两个第二遮光区之间包括第二透光区；第二透光区的宽度大于第一透光区的宽度，第二透光区包括第一预设透光区和第二预设透光区，第二预设透光区沿第一方向位于第一预设透光区的两侧，第一预设透光区的宽度大于第二预设透光区的宽度，至少部分靠近第一预设透光区的第二预设透光区

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117784514A

(43)申请公布日2024.03.29

(21)申请号202311844249.6

(22)申请日2023.12.28

(71)申请人厦门天马微电子有限公司

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