晶圆洗刷件定位装置和半导体工艺设备.pdfVIP

  • 1
  • 0
  • 约1.62万字
  • 约 15页
  • 2024-03-30 发布于四川
  • 举报

晶圆洗刷件定位装置和半导体工艺设备.pdf

本实用新型提供了一种晶圆洗刷件定位装置和半导体工艺设备。所述晶圆洗刷件定位装置包括光源、探测器、位置调节装置和处理器,所述处理器分别与所述探测器和刷子机械臂电连接,所述光源和所述探测器滑动设置于所述位置调节装置,所述光源用于通过所述位置调节装置调整到目标位置以发射光束,所述探测器用于通过所述位置调节装置调整到与所述光源相对的目标位置,并侦测所述光束以得到光束被晶圆洗刷件遮挡的信息,所述处理器用于根据所述光束被晶圆洗刷件遮挡的信息控制所述刷子机械臂移动,以定位晶圆洗刷件的位置。本实用新型避免了晶圆

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220691978U

(45)授权公告日2024.03.29

(21)申请号202322359790.X

(22)申请日2023.08.31

(73)专利权人芯恩(青岛)集成电路有限公司

文档评论(0)

1亿VIP精品文档

相关文档