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载盘装置及等离子蚀刻设备.pdfVIP

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  • 2024-04-03 发布于四川
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载盘装置及等离子蚀刻设备.pdf

    本发明涉及一种载盘装置及等离子蚀刻设备。载盘装置，包括载盘，载盘设有若干承载部，各承载部分别与载盘伸缩连接，承载部被配置为承载待蚀刻晶圆。各承载部与载盘界定出一容置腔和若干缓冲腔，各缓冲腔分别与容置腔连通，容置腔内容置有承载介质，各缓冲腔为空腔，各缓冲腔被配置为容置承载介质，且各缓冲腔所能容纳之承载介质的总重量小于单个待蚀刻晶圆之重量。其中，各承载部依照置于载盘上的待蚀刻晶圆的数量自动调整待蚀刻晶圆与等离子蚀刻设备的上电极之间的相对距离。本发明提供的载盘装置及等离子蚀刻设备，能够自动调整待蚀刻晶

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117810056A

    (43)申请公布日2024.04.02

    (21)申请号202211164468.5

    (22)申请日2022.09.23

    (71)申请人重庆康佳光电科技有限公司

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