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选择性暴露晶面的单晶模型催化剂及其制备方法和应用.pdfVIP

选择性暴露晶面的单晶模型催化剂及其制备方法和应用.pdf

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    本申请公开了一种选择性暴露晶面的单晶模型催化剂及其制备方法和应用，制备方法包括：选择单晶基底；基于目标晶面，构建能暴露目标晶面的图形化方案；在单晶基底上制备光刻胶层，在光刻胶层上制备图形化方案的电极图形；以光刻胶为掩膜，刻蚀单晶基底，去除剩余光刻胶，得到暴露目标晶面的目标单晶模型催化剂。本申请可简单快速的定制不同晶面的暴露，无需掩模版即可实现多种晶面的精密构造，可以实现任意形状、不同数量级长度尺度上材料的微纳结构制备；获得的暴露目标晶面的目标单晶催化剂具有平整的表面和不同比例的不同晶面，可作为模

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117802523A

    (43)申请公布日2024.04.02

    (21)申请号202311855045.2

    (22)申请日2023.12.29

    (71)申请人中国科学院苏州纳

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