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本发明公开了一种离子注入‑薄膜沉积复合表面改性装置，包括箱体，所述箱体分隔形成离子注入腔以及薄膜沉积腔，所述离子注入腔中设置有注入离子源，所述离子注入腔一侧设置有用于将样品送入或送出离子注入腔的第一输送腔，所述第一输送腔与离子注入腔之间设置有第一隔离板，所述薄膜沉积腔一侧设置有用于将样品送入或送出薄膜沉积腔的第二输送腔，所述第二输送腔与薄膜沉积腔之间设置有第二隔离板，所述离子注入腔和薄膜沉积腔中设置有传送带，所述离子注入腔与薄膜沉积腔之间设置有第三隔离板。其结构布局简单合理，避免薄膜沉积导致的注
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117802469A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311873205.6C23C14/50(2006.01)
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