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- 2024-04-03 发布于四川
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本公开提供一种清洁基座，其包括：外壳，所述外壳至少部分地限定了半封闭清洁室，所述半封闭清洁室用于容纳第二搅拌件的至少部分；开口，所述开口被所述外壳的至少部分所限定；刮除器，所述刮除器的至少部分位于所述半封闭清洁室内，并且邻近所述开口设置；其中，所述刮除器被设置为与所述第二搅拌件干涉；以及出水口，所述出水口形成于所述外壳的外部上方，用于向所述半封闭清洁室外的第二搅拌件提供清洁液体。本公开还提供一种侧面清洁组件及清洁头。
(19)国家知识产权局
(12)实用新型专利
(10)授权公告号CN220695182U
(45)授权公告日2024.04.02
(21)申请号202322360065.4
(22)申请日2023.08.31
(73)专利权人北京顺造科技有限公司
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