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- 2024-04-03 发布于四川
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本发明提供处理基板的设备。处理基板的设备可以包括：卡盘，所述卡盘支撑基板；气体供应单元，所述气体供应单元向被所述卡盘支撑的所述基板的边缘区域供应制程气体；以及边缘电极，所述边缘电极以从上部观察时包围被所述卡盘支撑的所述基板的方式提供，从所述气体产生等离子体，所述边缘电极具有环状，在所述边缘电极上形成有槽，所述槽在从上部观察时从所述边缘电极的内周朝外周的方向凹入而成。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117813678A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202180101572.7(74)专利代理机构北京律智知识产权代理有限
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