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- 2024-04-03 发布于四川
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本文所述的实施方式提供一种光刻工艺的系统、软件应用及方法,其提供以下能力的至少一个:减少稳定时间的能力;以及将曝光图案写入基板上的光刻胶中以补偿总节距在稳定时间内的变化的能力。系统的一个实施方式包括平板、设置于平板之上的平台、设置于平板上的一对支撑件、处理设备以及冷却机系统。此对支撑件支撑一对轨道,平台被配置成沿着此对轨道移动。处理设备具有耦接于平板的设备支撑件以及由设备支撑件支撑的处理单元。处理单元具有多个影像投射系统。冷却机系统具有设置在此对轨道的各轨道中的至少一个流体通道。
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN113490885A
(43)申请公布日2021.10.08
(21)申请号202080016676.3安托尼·P·马内斯
(22)申请日202
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