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2024-04-03 发布于四川
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阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法.pdf

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本申请涉及一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制备方法，包括衬底基板。在所述衬底基板上形成有第一绝缘层。在所述第一绝缘层上依次形成有第一钝化层、有机膜层以及第一导电层。在所述第一导电层上形成有第二钝化层，所述第二钝化层包括第一区域和第二区域，所述第一区域和所述第二区域依次相邻。在所述第一区域上形成有第一凹槽。在所述第一区域内形成有第二导电层；或者在所述第二区域内形成有第二导电层。本申请通过在第二钝化层上开设凹槽减小公共电极和像素电极的间距，从而增加横向电场，提高驱动电压，进而提升产品透光率。同时本

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN117806084A

(43)申请公布日2024.04.02

(21)申请号202410007526.6G02F1/1337(2006.01)

(22)申请日2024.01

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