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本发明涉及光学加工驻留时间解算技术领域，尤其涉及一种矩阵法计算驻留时间的离散形式修正方法，首先获得离散化的待加工工件面形残差、去除函数以及抛光离散化的轨迹的散点，再根据驻留点的影响面积生成修正权重，并根据修正权重对矩阵法中的去除矩阵元素进行修正，得到修正后的离散化去除矩阵以及其与面形残差和驻留时间之间的矩阵方程；最后对矩阵方程进行求解，得到最终的每个驻留点对应的驻留时间解。本发明将离散化信息利用影响面积为修正权重进行补全，避免了变元增量的遗漏，使得驻留时间解在计算过程中达到均匀，提升驻留时间的精
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117807816A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202410227836.9
(22)申请日2024.02.29
(71)申请人中国科学院长春光
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