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本发明提供一种可对多个成膜对象物同时进行基于均匀膜厚分布的成膜的成膜装置。实施方式的成膜装置具有：自公转单元，使托盘以轴部为中心公转，并且随着轴部的旋转而使托盘以支撑托盘的支撑轴为中心自转；推动器单元，设置成能够与自公转单元接触/分离，通过与自公转单元接触并施力，而使自公转单元从搬送体分离并使其在收容位置与离开位置之间移动，所述收容位置是将搭载有工件的托盘收容于成膜室的位置，所述离开位置是通过远离自公转单元而使自公转单元搭载于搬送体并使其离开成膜室的位置；及旋转单元，通过在将搭载有工件的托盘收容
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117802459A
(43)申请公布日2024.04.02
(21)申请号202311256792.4C23C14/56(2006.01)
(22)申请日2023.09.
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