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- 2024-04-06 发布于四川
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本发明提供了一种闪耀光栅的制造方法、闪耀光栅、光波导以及AR设备，该方法包括：提供一基底；对所述基底进行图形化处理，以形成图形化基底；所述图形化基底的表层包括若干基底凹槽；在所述基底凹槽中形成掩膜层；其中，所述掩膜层填满所述基底凹槽且所述掩膜层的材料与所述基底的材料不同。以一预设角度对所述图形化基底与所述掩膜层进行刻蚀，以去除所述掩膜层，并在所述基底上形成闪耀光栅。该技术方案解决了如何通过调节刻蚀角度之外的因素，来调节最终形成的闪耀角的角度的技术问题，提高了可调参数自由度，且工艺相对简单，易于操
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117826293A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202211183544.7
(22)申请日2022.09.27
(71)申请人上海鲲游科技有限
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