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本发明公开了一种增强电子系统内外磁屏蔽的方法及电子系统,属于电磁干扰技术领域,对电子系统的金属外壳进行以下处理步骤:外壳涂抹、设备调试、外壳放置、磁控加工、浸泡溶剂、烘干静置,使得电子系统的金属外壳内壁形成一层具备电磁场屏蔽功能的铁氧体薄膜,其中金属外壳和铁氧体薄膜之间还有一层缓冲材料,本发明还提供了使用上述电磁屏蔽方法的电子系统,解决了现有技术很难屏蔽强磁场、铁氧体材料难以与金属外壳相结合的技术问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117821973A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202311563332.6
(22)申请日2023.11.22
(71)申请人成都火炬电子有限
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