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本发明提供一种图像传感器形成方法，包括：在栅极形成之前，通过刻蚀和外延工艺，在所述图像传感器的像素区域周围形成至少一层第一隔离层，通过在所述第一隔离层中填充介质并设置所述第一隔离层的形状，使光线从外部射向所述像素区域时在所述第一隔离层界面发生反射，减少光学透射，实现光学隔离。本发明通过设置像素区域周围隔离结构的形状，降低外围光信号和热信号对像素区域感光的影响，提高图像传感器的性能，同时还可以避免金属材料带来的应力影响。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117855226A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202211208598.4
(22)申请日2022.09.30
(71)申请人格科微电子（上海）有限公司
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