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本申请提供的降低氮化物材料点缺陷的工艺方法及器件,包括在高温热退火处理的AlN模板上外延依次生长的AlN层、Al组分线性渐变层及Al0.5Ga0.5N层,所述Al组分线性渐变层包括AlN‑GaN‑AlN层和GaN‑AlN‑GaN层,当从AlN线性渐变到GaN和GaN线性渐变到AlN时,会在该区域内诱导出三维空穴气(3DHG)和三维电子气(3DEG),这能够分别促进和抑制O杂质点缺陷在该区域的形成,从而阻挡热退火AlN模板中O杂质点缺陷向最外层AlGaN扩散,从而能够有效降低Al0.5Ga0.5N
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117855026A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202311736731.8C30B25/18(2006.01)
(22)申请日2023.12.
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