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一种预防永磁体碎片堵塞微电机的制造方法.pdf

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    本发明公开了一种预防永磁体碎片堵塞微电机的制造方法，通过在永磁体表面涂覆聚脲涂层，聚脲涂层由A组分和B组分组成，聚脲涂层的涂覆方法包括有以下步骤：S1：A组分和B组分分别盛放于A容器和B容器中；其中，A组分采用聚天门冬氨酸酯树脂，B组分采用异氰酸酯固化剂；S2：按重量配比将A组分及B组分别输送至配比容器中；S3：利用电动搅拌器将A组分和B组分充分搅拌均匀；S4：将混合后的聚脲材料涂覆于永磁体的表面并形成保护膜。当微电机受到瞬间外部冲击力时，聚脲涂层通过应变率敏感效应迅速发生变形，吸收相应的冲击能

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117844355A

    (43)申请公布日2024.04.09

    (21)申请号202410029691.1C08G18/64(2006.01)

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