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本发明公开了一种基于疏水基底的亲水阵列的制备方法，包括以下步骤：（1）在疏水基底上覆盖均匀排列若干个孔的掩膜；（2）向掩膜上的孔内沉积亲水物质的溶液或悬浮液；其中，沉积方法为超声雾化或喷雾或化学气相沉积；（3）沉积过程中，将可动掩膜置于多孔掩膜上，通过电机驱动、手工移动改变可移动掩膜的遮挡区域，实现阵列中不同位置亲水物质的量的控制；（4）将掩膜从疏水基底上移除，使得亲水物质沉积在疏水基底上，形成亲水区域阵列；本发明无需复杂的工艺步骤或设备，实现了实现高效、可控、稳定的亲水阵列制备。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117840011A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410017890.0B05D1/02(2006.01)
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