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一种用于清洁光刻设备中所使用的部件的设备，该设备包括至少一个清洁模块或多个清洁模块，其中至少一个清洁模块或多个清洁模块包括多个清洁机构，并且其中，多个清洁机构包括：至少一个准备机构和至少一个去除机构，该准备机构用于减小粒子对部件的粘附力，该去除机构用于从部件去除粒子，或多个去除机构，用于从部件去除粒子。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117859094A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202280054536.4R·W·L·拉法瑞C·C·欧滕斯
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